【直播回听】ASML的商业计划书(七)打败尼康的发明企业故事汇|战略、组织与领导力

【直播回听】ASML的商业计划书(七)打败尼康的发明

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PAS 5500上市后,ASML的技术优势得到市场的承认。但是,芯片厂商在选择光刻机时会考虑多种因素。光刻机技术领先被看成是日本芯片制造成功的一个主要原因,当美国一线厂商将日本企业作为竞争对手时,他们自然会倾向于购买日本光刻度机。美国企业指望用相同的技术打败对方,在战略上似乎并不是明知的选择。ASML在90年代末的市场份额达到37%,主要得益于美国二线厂商和中国台湾和韩国厂商的订单。2001年之后,ASML的市场份额逐渐上升到50%,成为市场第一名。促成这一进步的主要是两项技术:双工件台和浸润式光刻机。

展开Show Notes
1:05:35 ASML成功中的三大运气因素。
53:46 ASML向下游厂商寻求资金支持,英特尔、台积电、三星组成三个火枪手。
49:20 ASML获准加入EUV-LLC技术联盟,日本企业没有获得批准。
46:14 2000年,ASML宣布收购美国最后一家光刻机厂商SVG。
29:20 ASML和台积电合作开发浸润式光刻机。双方各自贡献的讲述。
21:12 林本坚的意见不只是技术主张,也代表芯片厂商的利益。
14:49 台积电林本坚是第一位建议改放弃157纳米,改用193纳米浸润式技术专家。
11:17 浸润式光刻机和157纳米波长技术遇到的困难。
07:04 对于双工件台技术,尼康没有预案,错过三年时间。
02:32 双工件台技术属于流程创新,是渐进式创新。